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[00221951]一种抗辐照纳米多孔膜

交易价格: 面议

所属行业: 其他新材料技术

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:201410154451.0

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 武汉大学

进入空间

所在地:湖北武汉市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  本发明公开了一种抗辐照多孔纳米膜,属于先进核能材料应用领域。其具有贯通表面的纵向纳米孔道,所述纵向纳米孔道的直径大于2纳米,所述纵向纳米孔道的间距小于间隙原子和He气体的扩散距离,并且每个纵向纳米孔道上还横向生长有枝杈状纳米孔道。利用多孔纳米膜丰富孔道,可以吸收辐照所产生的间隙原子、空位、嬗变气体等缺陷,还能将气体原子释放到材料外,从而大幅度降低材料体内缺陷浓度,防止间隙原子、空位、嬗变气体的聚集形成原子团簇、空洞、气泡等,大大提高了材料的抗辐照肿胀、硬化、非晶化能力。

  本发明公开了一种抗辐照多孔纳米膜,属于先进核能材料应用领域。其具有贯通表面的纵向纳米孔道,所述纵向纳米孔道的直径大于2纳米,所述纵向纳米孔道的间距小于间隙原子和He气体的扩散距离,并且每个纵向纳米孔道上还横向生长有枝杈状纳米孔道。利用多孔纳米膜丰富孔道,可以吸收辐照所产生的间隙原子、空位、嬗变气体等缺陷,还能将气体原子释放到材料外,从而大幅度降低材料体内缺陷浓度,防止间隙原子、空位、嬗变气体的聚集形成原子团簇、空洞、气泡等,大大提高了材料的抗辐照肿胀、硬化、非晶化能力。

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