[00266502]惯性约束聚变装置中基于光克尔效应的径向光束匀滑装置
交易价格：
面议
所属行业：
其他机械
类型：
实用新型专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201520907538.0
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
四川大学
进入空间
所在地：四川成都市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本实用新型涉及一种惯性约束聚变装置中基于光克尔效应的径向光束匀滑装置。该装置是在激光驱动惯性约束聚变装置光传输链中，于预放大系统和主放大系统之间加入一基于光克尔效应的径向光束匀滑装置，并利用光克尔介质和径向光束匀滑装置中的周期性高斯脉冲相互作用产生的周期性球面位相调制，对惯性约束聚变装置光传输链中的激光光束透射波前进行周期性调制，实时改变其远场焦斑的尺寸，实现快速变焦；快速变焦进一步引起远场散斑的径向扫动，实现激光光束远场焦斑在径向方向上的匀滑，在较短积分时间内实现激光光束远场辐照均匀性，即改善其靶面辐照的均匀性。
本实用新型涉及一种惯性约束聚变装置中基于光克尔效应的径向光束匀滑装置。该装置是在激光驱动惯性约束聚变装置光传输链中，于预放大系统和主放大系统之间加入一基于光克尔效应的径向光束匀滑装置，并利用光克尔介质和径向光束匀滑装置中的周期性高斯脉冲相互作用产生的周期性球面位相调制，对惯性约束聚变装置光传输链中的激光光束透射波前进行周期性调制，实时改变其远场焦斑的尺寸，实现快速变焦；快速变焦进一步引起远场散斑的径向扫动，实现激光光束远场焦斑在径向方向上的匀滑，在较短积分时间内实现激光光束远场辐照均匀性，即改善其靶面辐照的均匀性。
