[00297016]一种三维高分散纳米层状双氢氧化物的合成方法
交易价格：
面议
所属行业：
其他新材料技术
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：201510818700.6
交易方式：
技术转让
联系人：
桂林理工大学
进入空间
所在地：广西壮族自治区桂林市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种三维高分散纳米层状双氢氧化物的合成方法。以纳米SiO2为硬模板，通过引入二价、三价混合金属盐溶液和碱液，采用共沉淀法合成了三维高分散纳米层状双氢氧化物。发明使用的纳米SiO2粉体在层状双氢氧化物形成初始阶段作为晶体成核模板，随着反应的进行纳米SiO2模板逐渐转变为硅酸盐，而在反应结束后模板完全消失，最终形成三维高分散纳米层状双氢氧化物。本发明合成过程简单、绿色、产量高、条件温和，无需专门去模板工艺；获得的纳米层状双氢氧化物比表面积高达110.21m2/g，平均孔径为3.77nm，片层薄，是一种三维高分散的纳米材料。
本发明公开了一种三维高分散纳米层状双氢氧化物的合成方法。以纳米SiO2为硬模板，通过引入二价、三价混合金属盐溶液和碱液，采用共沉淀法合成了三维高分散纳米层状双氢氧化物。发明使用的纳米SiO2粉体在层状双氢氧化物形成初始阶段作为晶体成核模板，随着反应的进行纳米SiO2模板逐渐转变为硅酸盐，而在反应结束后模板完全消失，最终形成三维高分散纳米层状双氢氧化物。本发明合成过程简单、绿色、产量高、条件温和，无需专门去模板工艺；获得的纳米层状双氢氧化物比表面积高达110.21m2/g，平均孔径为3.77nm，片层薄，是一种三维高分散的纳米材料。
