[00301442]二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜的制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
纳米及超细材料
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201210239163.6
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
哈尔滨工业大学
进入空间
所在地：黑龙江哈尔滨市
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-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜的制备方法，它涉及一种SiO2膜的制备方法。本发明为了解决现有制备具有六方紧密堆积结构的SiO2胶体晶体的方法可重复性低，膜层不可控，成本高，面积小的技术问题。本方法如下：一、制备SiO2颗粒分散液；二、玻璃基片的清洗；三、氨基化处理载玻片；四、十六烷基三甲基溴化铵改性纳米SiO2；五、铺展液的配制：六、将氨基化处理的载玻片与铺展液放入系统中，在氨基化处理的载玻片表面上得到SiO2膜，将SiO2膜干燥，烧结，即得。本发明制备的二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜，具有面积大，有序度高，粒子粒径小的优点，并且膜层高度可控，重复性高，价格低廉。
摘要：二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜的制备方法，它涉及一种SiO2膜的制备方法。本发明为了解决现有制备具有六方紧密堆积结构的SiO2胶体晶体的方法可重复性低，膜层不可控，成本高，面积小的技术问题。本方法如下：一、制备SiO2颗粒分散液；二、玻璃基片的清洗；三、氨基化处理载玻片；四、十六烷基三甲基溴化铵改性纳米SiO2；五、铺展液的配制：六、将氨基化处理的载玻片与铺展液放入系统中，在氨基化处理的载玻片表面上得到SiO2膜，将SiO2膜干燥，烧结，即得。本发明制备的二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜，具有面积大，有序度高，粒子粒径小的优点，并且膜层高度可控，重复性高，价格低廉。
